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產(chǎn)品型號: OMD-1000
所屬分類:光源
產(chǎn)品時間:2024-09-07
簡要描述:日本朝日分光asahi-spectra光學(xué)膜厚儀OMD-1000這是一臺光譜膜厚監(jiān)測儀,用于監(jiān)測在用單色光進(jìn)行氣相沉積過程中基板上的光量變化。它也用在我們自己的氣相沉積設(shè)備中,并作為膜厚監(jiān)測設(shè)備完成,該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專有技術(shù)。
日本朝日分光asahi-spectra光學(xué)膜厚儀OMD-1000
這是一臺光譜膜厚監(jiān)測儀,用于監(jiān)測在用單色光進(jìn)行氣相沉積過程中基板上的光量變化。它也用在我們自己的氣相沉積設(shè)備中,并作為膜厚監(jiān)測設(shè)備完成,該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專有技術(shù)。
全波長范圍
在傳統(tǒng)型號中,波長選擇是濾光片類型,但是新產(chǎn)品結(jié)合了我們成熟的光譜儀,現(xiàn)在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個人計算機兼容的數(shù)字輸出,控制機制是從手動操作到個人計算機的命令控制。此外,通過將薄膜厚度計主體通過I / F直接連接到個人計算機來控制其厚度成為可能,這是一個非常緊湊的系統(tǒng),無需像其他制造商一樣具有控制器。
特征
日本朝日分光asahi-spectra光學(xué)膜厚儀OMD-1000
模型 | OMD-1000 |
光譜儀類型 | Zellny Turner類型單單色 |
波長范圍 | 保證范圍:380至900 nm可操作 范圍:350至1100 nm |
波長分辨率 | 狹縫0.5mm:4.2nm [546nm] 狹縫1.0mm:8.3nm [546nm] |
波長精度 | ±1.0納米 |
小波長進(jìn)給 | 0.1納米 |
外部控制 | RS232C |
外部輸出端子 | DC0-2V(滿量程) |
采樣間隔 | 100ms以上 |
靜電放電試驗?zāi)碗妷?/td> | ±5kV(實際8kV) |
光源 | 12V100W鹵素?zé)?/td> |
光強度穩(wěn)定性 | ±0.1%/ h以下 |
輸入電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
允許輸入電壓 | AC85-132V |
視在功率 | 340VA以下 |
使用環(huán)境 | 溫度10-35℃ 濕度20-80% |